机械设备安全隐患整改照片，机械设备安全隐患整改照片图片

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中芯国际与台积电、三星（造芯）的差距只差一台“光刻机”吗？

中芯国际与台积电、三星的技术实力差距，当然不是只差一台EUV（极紫外）光刻机。早在2018年，英特尔就向阿斯麦订购了3台EUV光刻机，三星订了6台，台积电则订了10台，结果台积电在制程工艺上还是领先英特尔和三星一代，这就说明EUV光刻机不是制约芯片厂制造技术进步的唯一因素。

买到先进的光刻机，只是具备了制造出先进芯片的前提，好比土豪买了法拉利，还是需要娴熟的驾驶技术的，这样才能飙过别人。

中芯国际原创始人张汝京博士是有故事的传奇人物。

光刻机有一个重要技术指标“最高分辨率”（单位nm），这是指它在硅片上能刻出的最小尺寸的特征线宽，代表着光刻机的潜能。

芯片的制造工艺流程主要分为前道工艺和后道工艺，光刻机的工作位于前道工艺。前道工艺里，有300到400个子工序，而光刻机占其中的60%左右，处于最复杂最尖端的领域。

当然，上图只是芯片制造的流程，具体工艺纷繁复杂，晶圆运进芯片制造厂后，从晶圆洗净开始，就正式进入制造程序，整个制造工艺包括数百道工艺，详见下图。

由于各厂家有不同的工艺，而每一道工艺的细微差别，都会拉开差距。

原因不难理解，对芯片制造公司来说，采用何种设备，以及具体的工艺流程，可以决定芯片的良率。

目前来讲，在芯片制造行业，中国的领头羊是中芯国际，排在它前面的就是台积电和三星，不过三星不是一家单纯晶圆代工厂，因此在芯片代工领域，最高端的玩家就中芯国际和台积电两家而已。

目前台积电和三星是世界上唯二的两家实现7nm制程芯片制造的厂商，无一例外的都采用了荷兰阿斯麦公司(ASML)的极紫外光刻（Extreme Ultra-violet），即我们常说的EUV光刻机。中芯国际自己研发了N+1、N+1技术，不需要EUV的情况下实现了接近7nm制程的水平，是一个很大的进步，但是比起台积电和三星来讲，除了光刻机以外，还有不小差距。

一直以来，中芯国际都是追赶者的角度，如果不是2017年10月份梁孟松的加入，中芯国际是绝无可能实现接近7nm制程工艺的N+1技术的。在梁孟松加入之前，中芯国际一直处于困兽状态，14纳米FinFET制程迟迟无法商用，良品率不到5%，梁孟松加入后，中芯国际就像坐上了火箭，短时间内即实现了14纳米FinFET制程的95%良品率。随后，梁孟松又带领团队继续研发了接近7nm制程的N+1和N+2技术，预计2020年底可以商用。

芯片制造是个技术密集型行业，尽管有了突破，中芯国际在技术积累上仍然落后台积电和三星一大截，前二者早就实现了7nm制程芯片的量产，据推算，台积电在8月份会实现5nm制程的量产，2nm也已经在积极研究中；自从美国的芯片代工龙头格罗方德宣布退出14nm以下代工市场以后，其市场份额被三星吃去大部分，去年6月份三星宣布5nm制程工艺已经可用。

因此，中芯国际虽然攻破了性能接近7nm制程的N+1技术，但是已经落后三星和台积电3年时间，另外两家已经实现了5nm制程工艺，相当于领先中芯国际1.5代-2代，所以中芯国际未来的路还很长。

虽然中芯国际的N+1、N+2技术不需要ASML的EUV，但是后续5nm、2nm的研究仍然避不开，与台积电和三星不同的是，中芯国际购买EUV之路一直受到美国的干扰，本来荷兰那边已经同意发货，关键适合又被美国卡住，所以如果后续获取不到EUV，中芯国际的下一代芯片制造工艺梦恐怕要破碎。

另外一点是人才问题，自从中芯国际挖来了梁孟松之后，其研究进展突飞猛进，国内有不少晶圆代工厂商都虎视眈眈。此外，台积电和三星有大量的专利授权，形成了比较厚的专业壁垒，中芯国际与台积电进行的两次诉讼都以失利告终，目前台积电拥有中芯国际10%的股份，所以恐怕台积电会一直压着中芯国际一头。

您好，很高兴回答您的问题。

中芯国际是少数可以代表中国科技的“重器”企业之一，不过与国际芯片巨头相比，中芯国际仍位居中间梯队的晶圆代工阵营。

全球芯片领域阵营划分

第一梯队就是拥有先进制程的台积电、Inter、Samsung的超级阵营，中间梯队是有仍处于摸索自主芯片道路的中芯国际、Global Foundried等，第三梯队主要由华虹半导体、力晶等组成。

中芯国际和第一梯队的差距

中芯国际在自主道路上摸索长达18年之久，但还是没有挤进第一梯队，为什么？因为我国芯片设计、制造、封装的产业链的技术水平仍旧是短板，能否自强，需要众多领域内的企业共同努力，突破。当前中芯国际在14nm、7nm等工艺制程上的突破尚需时日，题主所说只差一台“光刻机”这个说法太笼统。中芯国际与他们在制程营收上存在明显的滞后，目前150/180nm是中芯国际的主要营收，28nm以下营收比例较低，而台积电各制程营收比例相对稳定，每2-3年就有新一代制程实现量产，说明台积电对产品生命周期把控能力较强，良品率和产能控制也做得相当好。研发费用上也存在明显的差异，中芯国际的研发费用远低于台积电。

总结

中芯国际，在制程上明显落后第一梯队，营收结构单一，制程更新速度比第一梯队要慢，研发费用上也比第一梯队要少。差距不仅仅是光刻机，还有研发管理，成本投入，产能，良品率等诸多方面的差距。国产芯片要追上第一梯队，难度很高，需要付出很高的代价，需要的是长期艰苦奋斗。

以上，感谢您的阅读。

中芯国际和台积电的差距已经不是单单一个光刻机这么简单的事情，属于整体行业技术的差距，也是短时间内无法赶上的技术壁垒，而且现在中芯国际的核心团队还是以前在台积电，三星工作的技术团队，大陆在这方面技术人员以及基础还是相对薄弱，而且光刻机制造技术需要几万个文件，曾经有中国的技术团队去参观荷兰ASML厂区，有技术人员感叹就是把所有的图纸都拿到未必能制造出来，可见工艺的复杂性。

现在的ASML在光刻机领域几乎是统治性的存在，而且基本上一半的机器都出售给了大厂，而且能够在ASML拿到产品的厂家几乎都是股东的身份，现在光刻机领域不仅仅是资金问题，中芯国际曾经订了一台7纳米的光刻机到现在因为各种原因到现在也没有交付，而且即使交付了也很难在短时间内完成突破，所以中芯国际芯片的制造技术现在创新性的使用N+1技术，在2019年14纳米的技术已经开始量产，目前在产能上还是受到很大的制约，随着技术能力的提升产能也会慢慢变得充裕，不管不怎么讲也是中国芯片制造技术中值得骄傲的一件事情。

网络上已经有人传出一种观点，美国可能针对华为的芯片制造方面开始卡脖子，这是釜底抽薪的做法，如果触及到这种层面可能中美贸易对战将会进入一个新的层级，国家也将会采取一定的措施，而且一旦进入这个层面就是一种经济上的灾难，可以想象如果苹果手机不能在中国销售类似这样的措施，对于全球经济的发展也是一种严重的挑战。作为以商人思维行事的美国人也不愿意把事情弄得如此的僵硬，所以对于华为公司的打压主要是抑制，不至于打死的境界。

之所以像华为这种企业在国际上受到如此打的质疑，而且还出现倍卡脖子的现象，关键的原因在于国内很多科技基础不牢固，如果主流的产业已经被中国突破，对于中国企业的限制性也将会极大的降低，所以打铁还得自身硬，中国整个产业已经在努力变强大，但是欧美的很多国家不愿意看到中国一天天的变得强大，所以在舆论的宣传上以及在内心上对于中国的实际发展情况视而不见，从这次疫情上就可以看出端倪，很多国家对于中国的认知还停留在上个世纪的层面。

所以中国的芯片制造产业距离国际化还有很长的路子要走，想要改变这种现状除了积极的培养相关的人才，还是继续加大在教育产业上的投入，只要人才到位了什么技术难关也都能搞定，虽然已经取得了很大的成绩，但是距离真正在世界认可的程度还是有很长的距离要走，特别是在光刻机制造领域还是很长的路线要走，只要意志坚定时间长了总能完成突破，希望能帮到你。

到此，以上就是小编对于机械设备安全隐患整改照片的问题就介绍到这了，希望介绍关于机械设备安全隐患整改照片的1点解答对大家有用。